一、產(chǎn)品名稱(chēng)關(guān)鍵詞：石墨烯導(dǎo)電銀漿分散機(jī),銀粉漿料分散機(jī),銀漿復(fù)合分散機(jī),高剪切分散機(jī),高速膠體磨,膠體研磨機(jī)

二、銀漿的性質(zhì)與生產(chǎn)： 

銀漿系由高純度金屬銀的微粒、粘合劑、溶劑、助劑所組成的一種機(jī)械混和物的粘稠狀的漿料。導(dǎo)電銀漿對(duì)其組成物質(zhì)要求是十分嚴(yán)格的。其品質(zhì)的高低、含量的多少，以及形狀、大小對(duì)銀漿性能都有著密切關(guān)系。銀粉的分散效果直接關(guān)系到銀漿的質(zhì)量。所以采用好的分散設(shè)備對(duì)銀粉的分散是至關(guān)重要的，當(dāng)然分散劑的應(yīng)用也是*的。            

納米銀粉分散混合設(shè)備，納米銀粉分散，銀粉比表面積較大，易發(fā)生團(tuán)聚很難分散，如何將銀粉制成銀漿？銀漿的制備，炭黑的制備，銀粉的分散，炭黑的分散，高剪切分散機(jī)可幫您解決此類(lèi)難題。

三、XMD2000石墨烯導(dǎo)電銀漿分散機(jī)

研磨分散機(jī)是由膠體磨分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

以下為型號(hào)表供參考：

采用XMD2000/4研磨分散機(jī)，進(jìn)行研磨細(xì)化。

7L罐體（罐體大小后期可選擇）及循環(huán)系統(tǒng)，易于批次物料處理。

攪拌機(jī)進(jìn)行攪拌預(yù)混，提高產(chǎn)品的均勻性。

我司研磨分散機(jī)為超高速設(shè)備（轉(zhuǎn)速18000rpm），需要配冷水機(jī)對(duì)機(jī)械密封進(jìn)行降溫。

同時(shí)需要配置一臺(tái)變頻器，進(jìn)行轉(zhuǎn)速調(diào)試，設(shè)備開(kāi)關(guān)，有利于保護(hù)設(shè)備。

研磨分散機(jī)處理銀漿優(yōu)勢(shì)：

結(jié)合客戶實(shí)驗(yàn)案例，采用研磨分散機(jī)進(jìn)行銀粉處理，不僅生產(chǎn)效率快，一般研磨5-10遍即可；而且這種方式相對(duì)于三輥機(jī)以及砂磨機(jī)而言，物料損失更小。  

銀粉研磨分散設(shè)備采用*的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)將傳統(tǒng)的膠體磨和分散機(jī)合二為一，并配合超高速的轉(zhuǎn)速，轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm，研磨分散效果更佳。                
   

XMD2000系列研磨分散機(jī)參數(shù)表：