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                    產(chǎn)品展示/ Product display

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                    親水性白炭黑納米分散機

                    親水性白炭黑納米分散機定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

                    • 產(chǎn)品型號:XMD
                    • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
                    • 更新時間:2023-11-12
                    • 訪  問  量:1495
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                    聯(lián)系電話:13338684951

                    詳細(xì)介紹

                    一、產(chǎn)品名稱概述:親水性白炭黑納米分散機,氣相法白炭黑超細(xì)分散機,氣相法白炭黑研磨分散機,白炭黑納米分散機

                    二、親水性白炭黑的性質(zhì)及應(yīng)用

                    親水性氣相二氧化硅 親水性氣相二氧化硅是通過揮發(fā)性氯硅烷在氫氧焰中水解而制得的。 從化學(xué)角度看,這些松散的白色粉末由高純度的無定形二氧化硅構(gòu)成。 親水性二氧化硅可用水潤濕,并能在水中分散。

                    親水性氣相二氧化硅的基本性能:白色蓬松粉沫,多孔性,***無味無污染,耐高溫。同時它具備的化學(xué)惰性以及特殊的觸變性能明顯改善橡膠制品的抗拉強度,抗撕裂性和耐磨性,橡膠改良后強度提高數(shù)十倍。液體系統(tǒng)、粘合劑、聚合物等的流變性與觸變性控制、用作防沉、增稠、防流掛的助劑、HCR與RTV-2K硅酮橡膠的補強、可用來調(diào)節(jié)自由流動和作為抗結(jié)塊劑來改善粉末性質(zhì)等等。

                    親水性氣相白炭黑是氯硅烷在氫氧焰中高溫水解制得的一種無定型粉體材料,平均原生粒徑為7-40nm,聚集體粒徑為200-300nm,比表面積50-380m2/g,Sio2含量不小于99.8%;是一種多功能添加劑,廣泛用于硅橡膠、涂料、油墨、膠體蓄電池等行業(yè),可起到增稠、觸變、消光、防沉等作用。

                    三、親水性白炭黑在液體介質(zhì)中的分散

                    親水性氣相白炭黑的比表面積越大,粒徑越小,其增稠性越好。不過具體的增稠和觸變性能與白炭黑的分散程度有很大關(guān)系。白炭黑的粒徑小,如果分散不好,增稠性能也不好。

                    親水性氣相法白炭黑在液體介質(zhì)中的分散程度是影響其性能的重要因素。良好的分散可以形成疏松的白炭黑網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),使體系的粘度增加,起到增稠作用。由于這種網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)是在白炭黑粒子之間通過氫鍵結(jié)合形成的,所以是可逆的,在機械力作用下,網(wǎng)絡(luò)可被破壞,從而使體系粘度降低,產(chǎn)生觸變性。因此,過度分散將造成白炭黑鏈狀聚集體的嚴(yán)重破碎,影響三維網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)的形成,從而破壞體系的流變特性。氣相法白炭黑在液體介質(zhì)中的分散程度是由分散強度和分散時間而決定的。

                    五、SID高剪切分散設(shè)備在白炭黑分散細(xì)化中的作用

                    根據(jù)多家白炭黑企業(yè)經(jīng)驗可知,對于分散過程來說,轉(zhuǎn)子的轉(zhuǎn)速、剪切時間、轉(zhuǎn)子的精密程度是影響分散效果的關(guān)鍵因素。根據(jù)激光粒度測試結(jié)果分析,超高速剪切技術(shù)對于白炭黑聚集體的顆粒分散作用比傳統(tǒng)的機械式打漿法在平均粒徑上提高了一個數(shù)量級;同時,比一般低速剪切均質(zhì)有更顯著的優(yōu)勢,由于白炭黑聚集體得到充分的分散,白炭黑成品更加均勻穩(wěn)定。

                    另外采用SID高速剪切研磨分散機進(jìn)行親水性白炭黑的分散,一般可獲得更高固含濃度的漿料體系,18000rpm超高轉(zhuǎn)速有利于白炭黑的充分分散,提高固含量。

                    六、SID親水性氣相法白炭黑分散機特點

                    1、XMD2000系列超剪切納米分散機,采用膠體磨+分散機一體化的結(jié)構(gòu),二級模塊處理,先研磨后分散,打開白炭黑的聚集體,然后再瞬間充分均勻的分散,一般氣相法白炭黑分散后,粒徑可達(dá)DN90小于300nm。

                    2、XMD000系列納米分散機,主軸轉(zhuǎn)速高達(dá)18000rpm,線速度50m/s,具有超高的剪切力,為分散提供了強大的動力基礎(chǔ)。

                    3、XMD2000系列超高速納米分散機,采用線性結(jié)構(gòu),設(shè)備產(chǎn)量從小到大,從每小時幾升到每小時幾噸都能滿足,設(shè)備線性放大,小型和大型設(shè)備效果可保持一致。

                    七、SID親水性氣相法白炭黑分散機型號表

                    型號

                    流量

                    L/H

                    轉(zhuǎn)速

                    rpm

                    線速度

                    m/s

                    功率

                    kw

                    入/出口連接

                    DN

                    XMD2000/4

                    300

                    18000

                    50

                    4

                    DN25/DN15

                    XMD22000/5

                    1000

                    13000

                    50

                    11

                    DN40/DN32

                    XMD22000/10

                    2000

                    9000

                    50

                    22

                    DN80/DN65

                    XMD22000/20

                    5000

                    2850

                    50

                    37

                    DN80/DN65

                    XMD2000/30

                    8000

                    1420

                    50

                    55

                    DN150/DN125

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