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                    納米核酸導(dǎo)向藥物均質(zhì)膠體磨

                    納米核酸導(dǎo)向藥物均質(zhì)膠體磨轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化分散的效果。

                    • 產(chǎn)品型號(hào):XMD2000
                    • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
                    • 更新時(shí)間:2023-11-13
                    • 訪  問(wèn)  量:1623
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                    聯(lián)系電話:13338684951

                    詳細(xì)介紹

                    納米核酸導(dǎo)向藥物均質(zhì)膠體磨

                    許多核酸藥物目前在臨床應(yīng)用上**的難題就是在體內(nèi)易于被降解的問(wèn)題,難以 到達(dá)靶點(diǎn)部位,這是本領(lǐng)域難以克服的技術(shù)難題,大大限制了其臨床應(yīng)用。

                    一種制備納米核酸導(dǎo)向藥物的方法,所述方法包括

                    (1)將C32粒子、導(dǎo)向物、核酸藥物混合分散,形成復(fù)合物;

                    (2)將(1)獲得的復(fù)合物進(jìn)行聚乙二醇修飾,獲得納米核酸導(dǎo)向藥物。

                    在另一優(yōu)選例中,所述的導(dǎo)向物是多肽,且步驟⑴包括(a)將C32與導(dǎo)向物進(jìn)行酯化反應(yīng),形成C32-導(dǎo)向物復(fù)合物;以及(b)將C32-導(dǎo)向物復(fù)合物與核酸藥物混合,形成C32-導(dǎo)向物-核酸藥物復(fù)合物。在另一優(yōu)選例中,步驟(a)中,C32與導(dǎo)向物的摩爾比是1 (2_3);較佳地是 1 2.4。

                    在另一優(yōu)選例中,步驟(a)中,酯化反應(yīng)的催化劑是S0427Si02。在另一優(yōu)選例中,步驟(a)中,酯化反應(yīng)的時(shí)間是4士2小時(shí);較佳地是4士 1小時(shí)。在另一優(yōu)選例中,聚乙二醇修飾的方法是將C32-導(dǎo)向物_miRNA(較佳地溶于碳 酸鈉溶液)與過(guò)量的mPEG-SPA(較佳地溶于**中)反應(yīng)。在本發(fā)明的另一方面,提供所述的納米核酸導(dǎo)向藥物的用途,用于制備靶向治療 疾病的組合物。在本發(fā)明的另一方面,提供一種組合物,含有有效量的所述的納米核酸導(dǎo)向藥物;以及藥學(xué)上可接受的載體。本發(fā)明的其它方面由于本文的公開內(nèi)容,對(duì)本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言是顯而易見 的。

                    一層由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

                    第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

                    XMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。


                    研磨分散機(jī)是由膠體磨分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

                    級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。
                    第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

                    以下為型號(hào)表供參考:

                    型號(hào)

                    標(biāo)準(zhǔn)流量

                    L/H

                    輸出轉(zhuǎn)速

                    rpm

                    標(biāo)準(zhǔn)線速度

                    m/s

                    馬達(dá)功率

                    KW

                    進(jìn)口尺寸

                    出口尺寸

                    XMD2000/4

                    400

                    18000

                    44

                    4

                    DN25

                    DN15

                    XMD2000/5

                    1500

                    10500

                    44

                    11

                    DN40

                    DN32

                    XMD2000/10

                    4000

                    7200

                    44

                    22

                    DN80

                    DN65

                    XMD2000/20

                    10000

                    4900

                    44

                    45

                    DN80

                    DN65

                    XMD2000/30

                    20000

                    2850

                    44

                    90

                    DN150

                    DN125

                    XMD2000/50

                    60000

                    1100

                    44

                    160

                    DN200

                    DN150

                    納米核酸導(dǎo)向藥物均質(zhì)膠體磨

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